氧化钽（Ta2O5）靶：
用途：
氧化钽是一种高折射率、低吸收率材料，在液晶显示、光纤通讯领域广泛应用，其致密层可以通过电子蒸发或溅射氧化钽靶材方法形成，在近紫外线（350mm）到近红外线（8um）范围内作抗反射涂层或滤波器。
ZnS+SiO2靶 ：
1、配比：ZnS ：SiO 2 =80：20 （mol）； 2、性能：纯度≥ 4N（基于金属杂质），密度:＞3.60g/cm 3； 3、用途：用于 CD-RW、DVD等可擦写记录存贮光盘薄膜。 氧化铟锡粉及靶材： 用途 ：  氧化铟锡（ITO）粉是制备ITO靶材的原料。ITO靶材通过磁控溅射制备导电玻璃，可用于平面显示器，如大屏幕液晶显示器（LCD）、电子彩色显示器（ECD）、电子发光显示器（ELD）等；还可用于制备冰柜玻璃、电子屏蔽玻璃、高层建筑门窗玻璃、汽车、火车及飞机挡风玻璃等。 氧化铟锡粉技术指标： 1. Particle Size:15---100nm; 0.1---10um
2. Color: Blue; Yellow; Green
3. Surface Area:10---45m2/g
ITO粉的化学杂质指标应如下：
|
元素 |
Na |
Cr |
Ca |
Mg |
Cu |
Cd |
Pb |
Ni |
Zn |
Mn |
Co |
Bi |
Fe |
Mo |
Al |
Si |
|
含量
≤ |
4 |
1 |
6 |
1 |
1 |
3 |
1 |
1 |
2 |
1 |
1 |
1 |
6 |
1 |
1 |
10 |
1.Density: ≥99%
2.Purity: ≥99.99%
3.Size:520×280 ×Th.mm |
